Написал рецензию в тусовке литература
0 7 Октября Ответить
Написал рецензию в тусовке кино
0 4 Сентября Ответить
Написал рецензию в тусовке
0 1 Ноября 2017 Ответить
Написал рецензию в тусовке литература
0 25 Июня 2017 Ответить
Написал рецензию в тусовке литература
0 24 Июня 2017 Ответить
Для быстрого поиска начните вводить запрос
Multiscale process monitoring in Nanomanufacturing
от 5 016 руб.

The detection of the end of polishing during the chemical mechanical planarization (CMP) process is a critical task in semiconductor manufacturing. Even the research in CMP has grown and developed, one cannot predict the End point detection in order to avoid over or underpolishing wafer. The disadvantages of offline approach in endpoint detection have incited the researchers to discover an efficient substitute. In this Master thesis, an alternative approach named online method has been presented in which a sequential probability ratio test (SPRT) was developed and applied to the wavelet decomposed Acoustic emission data collected during the progression of the CMP process. Two dispersion parameters were used to detect endpoint, the first one standard deviation and the second the coefficient of variation. This test is shown to be efficient in controlling complex processes and appropriated for real-time application by developing a moving block strategy. This book is useful in...

Ваша оценка 0.0 Отменить оценку
  • Год выхода
  • Издательства
    LAP Lambert Academic Publishing
Рецензии (0)
Авторизуйтесь чтобы писать рецензии. Все рецензии
Комментарии (0)
Авторизуйтесь чтобы оставлять комментарии.

Поделитесь с друзьями